Hlavní stránka  >  Kosmetika  >  Pleť  >  Čištění pleti  >  Pleťové masky  >  Selfie Project NoStress pleťová maska 10 g
Vyprodáno

Selfie Project NoStress pleťová maska 10 g

exfoliuje, vyhlazuje, bojuje s nedokonalostmi

-10%

Selfie Project NoStress pleťová maska 10 g
Naše cena
36 Kč s DPH 
Ušetříte 4 Kč (10%)
Cena před slevou
40 Kč s DPH
Tento produkt není možné samostatně zakoupit.
Početks
Dotaz na prodejceHlídat cenu
Aktuální cena produktu je 36.00 Kč s dph
  Oznámit, až cena klesne pod    Kč s dph
  Oznámit každou změnu ceny
Váš e-mail  
Zaslat dotaz
Jméno:
Email:
Telefon:
' '
Opište kód:
Dotaz:
Sdílej
Kód:1905505
EAN:5902853040118
Výrobce:Maurissé Sp. z o.o.
Značka:Selfie Project®  (web)
Selfie Project®
Popis produktu
Určení:Normální

Pleťová maska #NoStress – vyrovnává povrch pleti, odstraňuje již existující skvrny a zabraňuje vzniku nových. Zároveň důkladně čistí a stahuje Póry a zanechává pleť matnou a viditelně hladší. Bioaktivní uhlí spojenec v boji proti nedokonalostem! Má antibakteriální vlastnosti, pohlcuje nečistoty, zmatňuje pleť a stahuje a čistí Póry. Minerální kaolinový jíl důkladně čistí pleť a reguluje produkci mazu. Odstraňuje toxiny, remineralizuje pleť a přináší zklidňující účinek. Kyselina Mandlová 1% má antibakteriální a exfoliační vlastnosti. Reguluje buněčnou obnovu, zlepšuje strukturu a barvu pleti, zklidňuje zanícení, působí na skvrny a Akné, hydratuje a vyhlazuje pleť.

  • důkladně čistí a stahuje Póry
  • s bioaktivním uhlím, kyselinou mandlovou a minerálním kaolinovým jílem
  • hydratuje a vyhlazuje pleť
Použití

Naneste masku na očištěnou pokožku, vyhněte se okolí očí a rtů. Nechte působit 10-15 minut. Opláchněte teplou vodou a použijte náš hydratační Matující krém. Pamatuj: neustále se starej o svou pleť.

Zákaznické recenze
Nebyly nalezeny žádné recenze.
Diskuze k produktu
Diskuze k: Selfie Project NoStress pleťová maska 10 g

Tato položka nebyla doposud diskutována. Pokud chcete být první, klikněte na tlačítko Přidat příspěvěk

Popis produktu
Zákaznické recenze
Určení:Normální

Pleťová maska #NoStress – vyrovnává povrch pleti, odstraňuje již existující skvrny a zabraňuje vzniku nových. Zároveň důkladně čistí a stahuje Póry a zanechává pleť matnou a viditelně hladší. Bioaktivní uhlí spojenec v boji proti nedokonalostem! Má antibakteriální vlastnosti, pohlcuje nečistoty, zmatňuje pleť a stahuje a čistí Póry. Minerální kaolinový jíl důkladně čistí pleť a reguluje produkci mazu. Odstraňuje toxiny, remineralizuje pleť a přináší zklidňující účinek. Kyselina Mandlová 1% má antibakteriální a exfoliační vlastnosti. Reguluje buněčnou obnovu, zlepšuje strukturu a barvu pleti, zklidňuje zanícení, působí na skvrny a Akné, hydratuje a vyhlazuje pleť.

  • důkladně čistí a stahuje Póry
  • s bioaktivním uhlím, kyselinou mandlovou a minerálním kaolinovým jílem
  • hydratuje a vyhlazuje pleť
Použití

Naneste masku na očištěnou pokožku, vyhněte se okolí očí a rtů. Nechte působit 10-15 minut. Opláchněte teplou vodou a použijte náš hydratační Matující krém. Pamatuj: neustále se starej o svou pleť.

Nebyly nalezeny žádné recenze.


© 2014 VMD Drogerie, Parfumerie CZ